真空卷繞鍍膜技術是在真空室內通過熱蒸發(fā)或者磁控濺射等方法在柔性基材表面制備一層或者多層具有一定功能的薄膜的技術；鍍膜部分的工作原理可以是電阻蒸發(fā)、感應蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射或者是其它真空鍍膜方法中的任意一種，其中鍍膜工作氣壓一般在10?4～10?3Torr。

但在現(xiàn)有的導電膜的鍍膜技術中，尤其涉及鍍膜設備不僅體積大占用空間多，而且功能單一,實際使用過程中常常使用磁控濺射的方法進行鍍膜，鍍膜過程前期需要先將成卷的柔性基材的開放端進行移動至另一固定輥上固定，然后再啟動設備對柔性基材進行鍍膜；此時在鍍膜的過程中，事先移動且固定的柔性基材開放端未經過磁控濺射完成鍍膜，進而導致柔性基材的浪費，降低了柔性基材鍍膜的效果，同時柔性基材鍍膜過程中，常常只能對一種柔性基材或一種厚度的柔性基材進行鍍膜，大大降低了柔性基材鍍膜的效率。

本發(fā)明所要改善的技術問題：在鍍膜的過程中，事先移動且固定的柔性基材開放端未經過磁控濺射完成鍍膜，進而導致柔性基材的浪費，降低了柔性基材鍍膜的效果，同時柔性基材鍍膜過程中，常常只能對一種柔性基材或一種厚度的柔性基材進行鍍膜，大大降低了柔性基材鍍膜的效率。

本發(fā)明提供一種導電膜的鍍膜系統(tǒng)，包括罐體，所述罐體擺放于地面上，所述罐體外部表面固接有用于安裝待鍍膜柔性基材的支撐裝置，所述罐體壁厚內設置有用于對柔性基材進行鍍膜的鍍膜單元，所述罐體頂部設有導氣管，所述導氣管貫通罐體頂部并延伸至鍍膜單元內，用于實現(xiàn)鍍膜單元處于真空環(huán)境中，所述罐體內設置有用于纏繞鍍膜后的柔性基材的收卷裝置，所述罐體底部安裝有用于為收集裝置提供動力的動力單元。

本發(fā)明提供一種導電膜的鍍膜系統(tǒng)，該設備豎直放置，相較于現(xiàn)有技術中的水平擺放，進一步的節(jié)省空間，同時還具有以下優(yōu)點，其一，收集裝置對待鍍膜柔性基材的夾取，避免了待鍍膜柔性基材直接纏繞在收卷裝置上，減少了柔性基材的材料浪費；其二，該設備可同時對多個不同厚度的待鍍膜的柔性基材進行鍍膜，資源合理化利用，在相同的時間內，提高了柔性基材的鍍膜效率；進而提高了設備的生產效率。

本發(fā)明提供一種導電膜的鍍膜系統(tǒng)，聚氨酯制成的伸縮板，具有彈性和伸縮性；在兩側支撐架移動過程中，即伸縮板可發(fā)生變形，對支撐架移動的距離進行封閉，避免外界空氣通過形成的缺口處進入至鍍膜單元內，確保鍍膜單元一直處于真空狀態(tài)中，進一步提高了鍍膜的效果。