近日，國家知識產(chǎn)權(quán)局發(fā)布了2026年1-2月國家知識產(chǎn)權(quán)局審查注冊登記統(tǒng)計月報。相較于2025年1-2月，2026年1-2月發(fā)明專利授權(quán)量同比增加2.05%，實用新型同比下降19.45%，外觀設(shè)計增加11.95%。

明專利審查最嚴格、技術(shù)含量最高，它的持續(xù)增長通常被視作創(chuàng)新能力提升的標志。

原因分析： 可能得益于企業(yè)和高校正逐步擺脫單純追求專利數(shù)量的階段，更注重核心技術(shù)的布局；也可能與國家知識產(chǎn)權(quán)局加強審查周期管理，高價值專利審查周期進一步壓縮有關(guān)。

近年來國家知識產(chǎn)權(quán)局明確強調(diào)要“嚴把授權(quán)關(guān)”，特別是針對長期以來被詬病為“水分大”、“垃圾專利”重災(zāi)區(qū)的實用新型專利。2025年下半年至2026年初，預(yù)計全國范圍內(nèi)繼續(xù)嚴厲打擊非正常專利申請（通常涉及大量低質(zhì)量、編造的實用新型），導(dǎo)致許多湊數(shù)的申請被撤回或不予授權(quán)。

附：2026年2月國家知識產(chǎn)權(quán)局審查注冊登記統(tǒng)計月報

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