并不會(huì)。
通常專利保護(hù)需要在產(chǎn)品研發(fā)初期就進(jìn)行立項(xiàng),隨著研發(fā)的進(jìn)行,通過(guò)發(fā)明人和專利工程師的挖掘形成技術(shù)改進(jìn)點(diǎn),而技術(shù)方案申請(qǐng)專利并不一定要進(jìn)行投產(chǎn),只需要技術(shù)方案清楚、完整、能夠?qū)崿F(xiàn)發(fā)明目的便可以申請(qǐng)專利。
如果等方案全部完善且大規(guī)模投產(chǎn)后再申請(qǐng)專利,有可能面臨因使用公開(kāi)而導(dǎo)致專利被駁回的風(fēng)險(xiǎn)。
因此,發(fā)明人研發(fā)的技術(shù)方案并不需要完全投產(chǎn)才申請(qǐng)專利,而是需要隨著研發(fā)的進(jìn)行同時(shí)來(lái)挖掘,并在投產(chǎn)之前申請(qǐng)專利。
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