最早,專利制度與版權(quán)制度的分界在于,專利保護的是工商業(yè)領(lǐng)域的技術(shù)和設(shè)計,注重實用性,目的是滿足人們的物質(zhì)需求;版權(quán)保護的是文學(xué)和藝術(shù)領(lǐng)域的作品,注重美感和藝術(shù)性,目的是滿足人們的精神需求。
但是,隨著人們對工業(yè)品視覺美感的要求越來越高,許多工業(yè)品不再僅僅局限于實用性,更增加了藝術(shù)性的追求,這就使得工業(yè)品,特別是工業(yè)品外觀設(shè)計同時滿足了版權(quán)法要求的獨創(chuàng)性,成為版權(quán)法保護的對象。至此,外觀設(shè)計專利與版權(quán)發(fā)生交叉,出現(xiàn)雙重保護。
由于外觀設(shè)計專利權(quán)提供的是一種強保護,可以排除競爭對手,對與其相同或相似設(shè)計的獨占實施權(quán);而版權(quán)法提供的是一種弱保護,并不限制和排斥他人的獨立創(chuàng)作,并使用與之相同或相似的作品。
因此,當(dāng)外觀設(shè)計專利權(quán)與版權(quán)出現(xiàn)交叉重疊時,權(quán)利人應(yīng)首先選擇保護力度更強的專利法進行保護,當(dāng)外觀設(shè)計專利權(quán)失效后,再采用版權(quán)法進行保護。












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